El Consejo Asesor de Ciencia y Tecnología se reúne en Taiwán

Tras 12 años de interrupción, a principios de diciembre de 2023 se celebró en Taipéi una reunión de un consejo asesor de ciencia y tecnología de alto nivel. La Reunión del Consejo Asesor de Ciencia y Tecnología del Yuan Ejecutivo se desarrolló a lo largo de tres días y convocó a destacados científicos y líderes de la industria para asesorar sobre el camino a seguir en el desarrollo tecnológico de Taiwán durante los próximos diez años. La conferencia se centrará en dos temas principales. Uno son las tecnologías verdes en el contexto del esfuerzo global por avanzar hacia la neutralidad de carbono, y el otro es la posible potenciación mutua entre la inteligencia artificial (IA) y la industria de los semiconductores. Los asesores son figuras destacadas del mundo académico y del sector privado que conocen a fondo las industrias y las cadenas de suministro de Taiwán y cómo les afectan las diversas tensiones geopolíticas. Se espera que la reunión elabore estrategias de desarrollo tanto a medio como a largo plazo para guiar a Taiwán en el camino de mantener sus capacidades técnicas de primer nivel. La presidenta Tsai, que dejará el cargo en mayo de 2024, pronunció un discurso en el que anunció que el país invertirá 300 000 millones de NT$ en un plan de innovación industrial impulsado por los chips que estudiará formas de combinar la IA generativa con el desarrollo de semiconductores de Taiwán. Además, para el desarrollo de las tecnologías verdes, el Gobierno movilizará los recursos de distintos ministerios, de la universidad, de la industria y de los grupos civiles para impulsar tecnologías que ayuden a Taiwán a alcanzar las emisiones netas cero en 2050. La reunión del Consejo Asesor de Ciencia y Tecnología del Yuan Ejecutivo se convocó por primera vez en 1980 y se celebró 31 veces hasta 2011. Se espera que el grupo, ahora reactivado, se reúna anualmente en el futuro. China promueve la industrialización de patentes en universidades e instituciones de investigación. La Administración Nacional de Propiedad Intelectual (NIPA), el principal regulador de la propiedad intelectual de China, dijo que redoblará sus esfuerzos para promover la tasa de industrialización de patentes de las universidades y las instituciones de investigación de todo el país. Se ha puesto en marcha un plan de trabajo que hará que las universidades y las instituciones de investigación científica evalúen sus patentes infrautilizadas y acelerará el proceso de industrialización de una selección de sus patentes de alto valor. Se espera que el informe esté listo a finales de 2024 y que el proceso de industrialización de las patentes tenga lugar a finales de 2025. El número de patentes de invención vigentes en las universidades chinas alcanzó las 794 000 a finales de 2023, y las instituciones de investigación científica poseían otras 229 000 patentes. Estas cifras suman en conjunto el 25 % del total de patentes del país. Otro fenómeno es la existencia de patentes inactivas, que se abordarán como parte del plan de trabajo. Se hará hincapié en los mecanismos de mercado, y la administración de PI coordinará con las empresas el análisis de las perspectivas industriales de las patentes generadas por las universidades y las instituciones de investigación científica para movilizar el interés y la inversión y promover la rápida transferencia de patentes de alto valor. Otras iniciativas que se probarán incluyen una mayor formación de agentes de patentes, la concesión de apoyo financiero a las universidades y las instituciones de investigación y una mayor atención a las pequeñas y medianas empresas. China afronta nuevas restricciones sobre artículos de Taiwán. Taiwán planea ampliar la cobertura de los artículos prohibidos como parte de su campaña de restricción de las exportaciones de chips ante la amenaza de China. El Ministerio de Asuntos Económicos ha estado redactando la segunda ronda de su prohibición de exportar chips, después de haber prohibido en diciembre de 2023 la exportación a China de 12 tipos de máquinas y piezas para la fabricación de chips capaces de producir chips de 14 nanómetros o menos. Actualmente se estudia añadir a la lista la exportación de fotomáscaras, sustratos y películas delgadas de fabricación local. La fotomáscara es una placa de sílice cubierta con un patrón de zonas transparentes y de cambio de fase que se proyectan sobre las obleas en el proceso de litografía. El sustrato es la propia oblea de silicio, mientras que la película delgada es el metal depositado sobre la oblea. El proceso de toma de decisiones se realiza en coordinación con el Departamento de Comercio de Estados Unidos, que, por razones de seguridad nacional, se preocupa de que China obtenga los chips del más alto nivel disponibles y los medios para fabricarlos. Asimismo, Taiwán elaboró una lista de 22 tecnologías clave que quiere mantener fuera del alcance de China. No se espera que las próximas limitaciones afecten al negocio de TSMC en China. TSMC fabrica en China chips de 14-16 nm, lo que genera aproximadamente el 10-12 % de sus ingresos totales procedentes del país. En respuesta a la prohibición prevista, se espera que China invierta en una nueva línea de producción de fotomáscaras que producirá fotomáscaras utilizables para la producción de chips de 28-90 nm. Para producir en masa chips de gama media de entre 28 y 90 nm, las fundiciones chinas de chips necesitan utilizar fotomáscaras importadas de Estados Unidos, Japón y Taiwán, porque las empresas chinas locales solo pueden fabricar por ahora fotomáscaras que producen chips de 130 nm. El Consejo de Estado de China publica el Reglamento de aplicación modificado de la Ley de Patentes. A finales de diciembre de 2023, el Consejo de Estado de China publicó el Reglamento de aplicación modificado de la Ley de Patentes. El Reglamento de aplicación explica cómo se aplicarán varias disposiciones de la Ley de Patentes modificada de China de 2021 y entró en vigor el 20 de enero de 2024.

Algunos de los aspectos más destacados son:

1. Eliminación del retraso de 15 días por correo en el cálculo de la mayoría de los plazos.

2. Restablecimiento de los derechos de prioridad.

3. Requisito de buena fe en la presentación de solicitudes de patente, con una multa máxima de 100 000 RMB por incumplir el requisito.

4. Los solicitantes pueden reivindicar la prioridad interna para un diseño a partir de una solicitud de patente de invención o de modelo de utilidad.

5. Las solicitudes de patente de invención pueden reivindicar la prioridad interna a partir de un modelo de utilidad o viceversa.

6. Los solicitantes pueden pedir el aplazamiento del examen de las solicitudes de patente.

7. Los informes de evaluación de los modelos de utilidad y los diseños serán públicos.

8. El ajuste del plazo de la patente debe solicitarse en los 3 meses siguientes a la concesión.

9. La extensión del plazo de las patentes farmacéuticas se calcula deduciendo 5 años del intervalo entre la fecha de presentación de la solicitud de patente y la fecha de autorización del medicamento.

Comunicado de prensa: Deep & Far

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